NANOLN社は、単結晶ニオブ酸リチウム薄膜および単結晶タンタル酸リチウム薄膜の専門メーカです。300-900nm LN薄膜(LNOI)は、電気光学変調器、遅延線、電気光学Q スイッチ、XBAR®、位相変調デバイス、非線形光学、強誘電体メモリデバイスなど多くの用途に利用できます。

■ 用途

・ 電気光学変調器
・ 遅延線
・ 電気光学Q スイッチ
・ XBAR®
・ 位相変調デバイス
・ 非線形光学
・ 強誘電体メモリデバイス

■  仕様

トップ機能層 直径 3, 4, (6) インチ 方位 X, Z, Y 他
材料 LiNbO3 厚さ 300-900 nm
ドーピング(オプション) MgO
分離層 材料 SiO2 厚さ 1000-4000 nm
基板 材料 Si, LN, 水晶, 溶融石英 他
厚さ 400-500 μm
オプションの電極層 材料 Pt, Au, Cr 厚さ 100-400 nm
構造 SiO2分離層の上または下
メーカ NANOLN